東工大ニュース

二重ループ構造により注入同期現象を安定化

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公開日:2013.02.18

【概要】
東京工業大学大学院理工学研究科の松澤昭教授と岡田健一准教授らの研究グループは、集積回路中での注入同期現象の安定化に成功した。注入同期現象をクロック生成に応用すれば、低消費電力で高純度なクロックを生成できることが知られていたが、温度や電源の変動により動作が不安定になる問題があった。同グループは注入同期する発振器を周波数補償ループから分け二重ループ構造として、この問題を解決した。 最小加工寸法65nm(ナノメートル)のシリコンCMOSプロセスで試作した新型クロック発生回路は、0.5G~1.6GHz(ギガヘルツ、1GHzは10億ヘルツ)のクロックを生成可能であり、1.2GHz出力時の消費電力は0.97mWと非常に低い。無線機やマイクロプロセッサなど、ほぼすべての集積回路に内蔵されているクロック生成回路を置き換えられ、集積回路の低消費電力・小型化が可能となる。
この成果は17日からサンフランシスコで開かれる「ISSCC (国際固体回路国際会議)」で19日に発表する。

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