東工大ニュース
東工大ニュース
公開日:2012.12.11
【要点】
【概要】
東京工業大学の菅原聡准教授,周藤悠介特任助教,山本修一郎助教らの研究グループは,神奈川科学技術アカデミーと共同で,CMOS/スピントロニクス融合技術を応用した擬似スピンMOSFETを用いて構成できる不揮発性SRAM(NV-SRAM)および不揮発性フリップフロップ(NV-FF)の開発を行った.高精度回路シミュレーションから,擬似スピンMOSFETを用いたこれら記憶回路の優位性・有用性と,不揮発性パワーゲーティング(NVPG)と呼ばれる究極のスタンバイ(待機時)電力削減アーキテクチャへ応用した場合の効果と設計指針を明らかにした. この研究成果は,12月10日から米国サンフランシスコで開催される米国IEEE学会主催の電子デバイス技術に関する世界最高峰の国際会議IEDMで発表する.
詳細はこちら⇒ プレスリリースPDFファイル
その他の研究成果はこちら⇒ 研究成果一覧